Postdoctoral Research Associate in Laser-Plasma Physics

02/09/2021 09:00

Grande áreaExatas e da Terra / Engenharias

Tipo de oportunidadePós-graduação

Objetivo: To developing and employing numerical modelling of hot and dense plasma under conditions relevant for state-of-the-art extreme-ultraviolet (EUV) nanolithography, where laser-driven plasma sources are used to provide the required EUV light.

Inscrições: até 30 de setembro de 2021

Local: Holanda

Mais informações no site.

Tags: Exterior